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InAlSb红外光电二极管性能研究

朱旭波 李墨 陈刚 张利学 曹先存 吕衍秋

朱旭波, 李墨, 陈刚, 张利学, 曹先存, 吕衍秋. InAlSb红外光电二极管性能研究[J]. 红外与激光工程, 2017, 46(7): 704002-0704002(5). doi: 10.3788/IRLA201746.0704002
引用本文: 朱旭波, 李墨, 陈刚, 张利学, 曹先存, 吕衍秋. InAlSb红外光电二极管性能研究[J]. 红外与激光工程, 2017, 46(7): 704002-0704002(5). doi: 10.3788/IRLA201746.0704002
Zhu Xubo, Li Mo, Chen Gang, Zhang Lixue, Cao Xiancun, Lv Yanqiu. Study on performance of InAlSb infrared photodiode[J]. Infrared and Laser Engineering, 2017, 46(7): 704002-0704002(5). doi: 10.3788/IRLA201746.0704002
Citation: Zhu Xubo, Li Mo, Chen Gang, Zhang Lixue, Cao Xiancun, Lv Yanqiu. Study on performance of InAlSb infrared photodiode[J]. Infrared and Laser Engineering, 2017, 46(7): 704002-0704002(5). doi: 10.3788/IRLA201746.0704002

InAlSb红外光电二极管性能研究

doi: 10.3788/IRLA201746.0704002
基金项目: 

国家国际科技合作专项(2014DFR50790)

详细信息
    作者简介:

    朱旭波(1986-),男,工程师,硕士,主要从事红外探测器用薄膜材料和器件制备方面的研究。Email:xubo613@163.com

  • 中图分类号: TN21

Study on performance of InAlSb infrared photodiode

  • 摘要: 在InSb衬底上利用分子束外延生长了p-i-n结构的InAlSb/InSb材料,通过在吸收层和接触层之间生长宽禁带的InAlSb势垒层,验证了势垒层对耗尽层中暗电流的抑制作用。分别基于外延生长的InAlSb材料和InSb体材料,借助标准工艺制备出二极管,并对其电性能进行测量分析,研究发现:77 K温度时,在-0.1 V的外偏电压下,p+-p+-n--n+结构和p+-n--n+结构InAlSb器件的反偏电流分别为3.410-6 Acm-2和7.810-6 Acm-2。基于p+-p+-n--n+结构研制的InAlSb二极管的暗电流保持在一个很低的水平,这为提高红外探测器的工作温度提供了重要基础。
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-11-11
  • 修回日期:  2016-12-03
  • 刊出日期:  2017-07-25

InAlSb红外光电二极管性能研究

doi: 10.3788/IRLA201746.0704002
    作者简介:

    朱旭波(1986-),男,工程师,硕士,主要从事红外探测器用薄膜材料和器件制备方面的研究。Email:xubo613@163.com

基金项目:

国家国际科技合作专项(2014DFR50790)

  • 中图分类号: TN21

摘要: 在InSb衬底上利用分子束外延生长了p-i-n结构的InAlSb/InSb材料,通过在吸收层和接触层之间生长宽禁带的InAlSb势垒层,验证了势垒层对耗尽层中暗电流的抑制作用。分别基于外延生长的InAlSb材料和InSb体材料,借助标准工艺制备出二极管,并对其电性能进行测量分析,研究发现:77 K温度时,在-0.1 V的外偏电压下,p+-p+-n--n+结构和p+-n--n+结构InAlSb器件的反偏电流分别为3.410-6 Acm-2和7.810-6 Acm-2。基于p+-p+-n--n+结构研制的InAlSb二极管的暗电流保持在一个很低的水平,这为提高红外探测器的工作温度提供了重要基础。

English Abstract

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