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空间同轴三反相机φ520 mm次镜的加工与检测

孟晓辉 王永刚 马仙梅 李文卿 李昂 张继友

孟晓辉, 王永刚, 马仙梅, 李文卿, 李昂, 张继友. 空间同轴三反相机φ520 mm次镜的加工与检测[J]. 红外与激光工程, 2017, 46(8): 818002-0818002(8). doi: 10.3788/IRLA201746.0818002
引用本文: 孟晓辉, 王永刚, 马仙梅, 李文卿, 李昂, 张继友. 空间同轴三反相机φ520 mm次镜的加工与检测[J]. 红外与激光工程, 2017, 46(8): 818002-0818002(8). doi: 10.3788/IRLA201746.0818002
Meng Xiaohui, Wang Yonggang, Ma Xianmei, Li Wenqing, Li Ang, Zhang Jiyou. Fabrication and test for φ520 mm secondary mirror of on-axis three mirror space camera[J]. Infrared and Laser Engineering, 2017, 46(8): 818002-0818002(8). doi: 10.3788/IRLA201746.0818002
Citation: Meng Xiaohui, Wang Yonggang, Ma Xianmei, Li Wenqing, Li Ang, Zhang Jiyou. Fabrication and test for φ520 mm secondary mirror of on-axis three mirror space camera[J]. Infrared and Laser Engineering, 2017, 46(8): 818002-0818002(8). doi: 10.3788/IRLA201746.0818002

空间同轴三反相机φ520 mm次镜的加工与检测

doi: 10.3788/IRLA201746.0818002
基金项目: 

国家科技重大专项(2011ZX04004-061)

详细信息
    作者简介:

    孟晓辉(1985-),男,高级工程师,硕士,主要从事光学超精密加工及检测方面的研究。Email:mrmeng_508@163.com

  • 中图分类号: TH706

Fabrication and test for φ520 mm secondary mirror of on-axis three mirror space camera

  • 摘要: 为了满足空间同轴三反相机对大口径凸非球面高精度的面形质量和精确的几何参数控制要求,提出以计算机控制确定性研抛工艺为核心的多工序组合加工及检测技术。在加工阶段,首先利用超声振动磨削技术对非球面进行面形铣磨,其次应用机器人对非球面面形进行快速研磨和粗抛,最后采用离子束修形技术实现非球面的高精度加工;在检测阶段,首先利用三坐标测量机对铣磨和研磨过程中非球面的面形及几何参数进行控制,进入干涉仪测量范围后,再采用Hindle球法对非球面光学参数进行干涉检测。结合工程实例,对一口径520 mm的凸双曲面次镜进行了加工及检测,其面形精度RMS为0.015(=632.8 nm),几何参数控制精度△R误差为0.1 mm、△K优于0.1%,满足光学设计技术指标要求。
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-12-07
  • 修回日期:  2017-01-11
  • 刊出日期:  2017-08-25

空间同轴三反相机φ520 mm次镜的加工与检测

doi: 10.3788/IRLA201746.0818002
    作者简介:

    孟晓辉(1985-),男,高级工程师,硕士,主要从事光学超精密加工及检测方面的研究。Email:mrmeng_508@163.com

基金项目:

国家科技重大专项(2011ZX04004-061)

  • 中图分类号: TH706

摘要: 为了满足空间同轴三反相机对大口径凸非球面高精度的面形质量和精确的几何参数控制要求,提出以计算机控制确定性研抛工艺为核心的多工序组合加工及检测技术。在加工阶段,首先利用超声振动磨削技术对非球面进行面形铣磨,其次应用机器人对非球面面形进行快速研磨和粗抛,最后采用离子束修形技术实现非球面的高精度加工;在检测阶段,首先利用三坐标测量机对铣磨和研磨过程中非球面的面形及几何参数进行控制,进入干涉仪测量范围后,再采用Hindle球法对非球面光学参数进行干涉检测。结合工程实例,对一口径520 mm的凸双曲面次镜进行了加工及检测,其面形精度RMS为0.015(=632.8 nm),几何参数控制精度△R误差为0.1 mm、△K优于0.1%,满足光学设计技术指标要求。

English Abstract

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