-
hBN/自溯源光栅复合结构形成了对PhPs的周期性调制作用,考虑到原子光刻铬光栅的自溯源特性,使测得的PhPs近场光学图像展现出与光栅周期相符的激发增强条纹,条纹间距可溯源至铬原子跃迁频率对应波长的一半λ/2,即212.782 nm,其中光栅样品引入的测量不确定度为0.008 nm。此外,成像设备SNOM通过收集针尖和样品之间的近场相互作用散射场信号进行测量,其成像分辨率受到探针尖端曲率的限制,该实验所用SNOM分辨率为10 nm,且基于原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)搭建的SNOM无法避免扫描不同尺寸图像的过程中,电动位移台会引入的位移误差。利用AFM和SNOM对同一样品位置不同扫描范围进行了近场光学信号测量精度的对比性研究,图5(a)~(c)分别为1 µm×1 µm、5 µm×5 µm以及10 µm×10 µm不同扫描范围的AFM图像,图5(d)~(f)为对应的SNOM成像。采用图像分析软件分析干涉条纹周期以及自溯源光栅图像分析方法,对不同扫描范围的SNOM成像进行对比研究,测量结果表现出自溯源光栅对测量值精度的有效提升,见表1。
采用图像分析软件对近场显微图中干涉条纹的周期进行线性拟合,提取干涉条纹的周期数值,该图像分析软件测量精度为0.001 µm,因此使用该方法测得干涉条纹周期值保留至1 nm位数。利用该方法所得测量结果表现出,当扫描范围较小时,测量误差较大;扫描范围较大时,由于SNOM图像中有多个干涉条纹用于数据拟合,因此测量误差较小。但是,对比三种不同扫描范围,整体测量结果具有不稳定性,考虑到设备分辨率为10 nm,标准偏差值可计算为4 nm。
自溯源光栅图像分析方法通过编写图像分析程序,对干涉条纹周期与自溯源光栅进行比对测量,以光栅周期为标尺,测定干涉条纹周期,在测量过程中,设置光栅节距大小为212.78 nm,精确至0.01 nm,因此利用该方法的测量结果保留两位小数。文中1 µm×1 µm、5 µm×5 µm以及10 µm×10 µm三种扫描范围的图像中,自溯源光栅节距值始终稳定,能够在不同扫描范围下作为稳定的标尺使用,对干涉条纹周期的测量值标准偏差为0.34 nm。与图像分析软件中数据拟合的测量方法得到的标准偏差为4 nm相比,文中提出的自溯源光栅图像分析方案将测量精度提升了一个数量级,实现了亚纳米精度的测量。为进一步降低测量偏差值,一方面可采用高度较高的自溯源光栅与hBN相结合,以提供更强的耦合信号,提升计算准确率;另一方面,在二维材料制备过程中确保边缘整齐、高度均匀,以提供分布均匀的边缘激发信号。此外,自溯源光栅的引入,不仅能够测量周期尺寸,也可对探测设备的测量位置进行校准。以该研究测试设备SNOM为例,图5(f)中已测量的条纹周期为261.41 nm,与图像分析软件拟合测量值为257 nm,因此设备位移装置应校准尺寸$ \mathrm{\Delta }U $约为−0.18 nm/pt,校准不确定度与光栅不确定度相关,具有亚纳米级准确度。然而,实际测量中仍需考虑设备分辨率对测量准确度产生的影响。仍以SNOM为例,其位移台在二维XY方向精度<0.2 nm,接近校准需求,则在实际校准中,受机械结构固有精度影响仅可在极限位移精度下完成精确校准。
Figure 5. A comparative study of AFM and SNOM images of hBN/grating composite structures with different scanning ranges. (a)-(c) AFM imaging of the sample surface morphology (The imaging sizes are 1 µm×1 µm, 5 µm×5 µm, and 10 µm×10 µm, respectively); (d)-(f) Near-field optical imaging of the sample corresponding to the previous images (The imaging sizes are the same as mentioned above)
Scanning range/µm2 Image analysis and period fitting/nm Image analysis of self-traceable grating/nm 1×1 264 261.28 5×5 254 260.35 10×10 257 261.41 S. D. 4 0.34 Table 1. Measurement of interference fringe period in images with different scanning ranges
Research on precise measurement of phonon-polariton interference fringe period
doi: 10.3788/IRLA20230414
- Received Date: 2023-07-20
- Rev Recd Date: 2023-08-15
- Available Online: 2023-12-22
- Publish Date: 2023-12-22
-
Key words:
- self-traceable grating /
- two-dimensional material /
- phonon polariton /
- nanometer metrology
Abstract: