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热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析

姜玉刚 王利栓 刘华松 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 季一勤

姜玉刚, 王利栓, 刘华松, 刘丹丹, 姜承慧, 羊亚平, 季一勤. 热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析[J]. 红外与激光工程, 2014, 43(10): 3334-3337.
引用本文: 姜玉刚, 王利栓, 刘华松, 刘丹丹, 姜承慧, 羊亚平, 季一勤. 热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析[J]. 红外与激光工程, 2014, 43(10): 3334-3337.
Jiang Yugang, Wang Lishuan, Liu Huasong, Liu Dandan, Jiang Chenghui, Yang Yaping, Ji Yiqin. Analysis on effects of thermal treatment on refractive index and absorption properties of SiO2 film[J]. Infrared and Laser Engineering, 2014, 43(10): 3334-3337.
Citation: Jiang Yugang, Wang Lishuan, Liu Huasong, Liu Dandan, Jiang Chenghui, Yang Yaping, Ji Yiqin. Analysis on effects of thermal treatment on refractive index and absorption properties of SiO2 film[J]. Infrared and Laser Engineering, 2014, 43(10): 3334-3337.

热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析

基金项目: 

国家自然科学基金(61235011);国家重大科学仪器专项子项目(2012YQ04016405);天津市科委项目(13JCYBJC17300,12JCQNJC01200)

详细信息
    作者简介:

    姜玉刚(1985-),男,博士,主要从事低损耗激光薄膜和固体激光薄膜设计、制备和性能检测技术研究。Email:jygang_4089@163.com

  • 中图分类号: TB34;O434

Analysis on effects of thermal treatment on refractive index and absorption properties of SiO2 film

  • 摘要: 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550 ℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2 ppm(1 ppm=10-6)左右,当热处理温度为550 ℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1 ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-02-05
  • 修回日期:  2014-03-03
  • 刊出日期:  2014-10-25

热处理对SiO2薄膜折射率和吸收特性的影响分析

    作者简介:

    姜玉刚(1985-),男,博士,主要从事低损耗激光薄膜和固体激光薄膜设计、制备和性能检测技术研究。Email:jygang_4089@163.com

基金项目:

国家自然科学基金(61235011);国家重大科学仪器专项子项目(2012YQ04016405);天津市科委项目(13JCYBJC17300,12JCQNJC01200)

  • 中图分类号: TB34;O434

摘要: 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550 ℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2 ppm(1 ppm=10-6)左右,当热处理温度为550 ℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1 ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。

English Abstract

参考文献 (25)

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