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Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究

李嘉 朱杰 张众 齐润泽 钟奇 王占山

李嘉, 朱杰, 张众, 齐润泽, 钟奇, 王占山. Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(4): 1335-1342.
引用本文: 李嘉, 朱杰, 张众, 齐润泽, 钟奇, 王占山. Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(4): 1335-1342.
Li Jia, Zhu Jie, Zhang Zhong, Qi Runze, Zhong Qi, Wang Zhanshan. Effect of Si barrier layers on the thermal stability of Al(1 wt.%Si)/Zr multilayers designed as EUV mirrors[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(4): 1335-1342.
Citation: Li Jia, Zhu Jie, Zhang Zhong, Qi Runze, Zhong Qi, Wang Zhanshan. Effect of Si barrier layers on the thermal stability of Al(1 wt.%Si)/Zr multilayers designed as EUV mirrors[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(4): 1335-1342.

Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究

基金项目: 

国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金资助(U1430131);上海市科委纳米项目(11nm0507200)

详细信息
    作者简介:

    李嘉(1988-),女,硕士生,主要从事X射线多层膜光学方面的研究.Email:freya.lijia@foxmail.com

  • 中图分类号: O434.1

Effect of Si barrier layers on the thermal stability of Al(1 wt.%Si)/Zr multilayers designed as EUV mirrors

  • 摘要: 为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性,采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜,并将这些样品分别进行了不同温度(100~500 ℃)的真空退火,退火时间为1 h.利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XRD)的方法来研究Si间隔层对Al/Zr多层膜热稳定性的作用.GIXR测量结果表明:随着Si间隔层厚度的增大,Al膜层的粗糙度减小,而Zr膜层的粗糙度增大;XRD测量结果表明:Al和Zr膜层粗糙度的变化是由于退火后膜层中晶粒尺寸不同造成的.相比于没有Si间隔层的Al/Zr多层膜,引入厚度为0.6 nm的Si间隔层可以有效提升Al/Zr多层膜的热稳定性.
  • [1] Windt D L, Bellotti J A. Performance, structure, and stability of SiC/Al multilayer films for extreme ultraviolet applications[J]. Appl Opt, 2009, 48(26): 4932-4941.
    [2]
    [3] Jonnard P, Le Guen K, Hu M -H, et al. Optical chemical, and depth characterization of Al/SiC periodic multilayers[C]//SPIE, 2009, 7360: 73600O.
    [4]
    [5] Meltchakov E, Hecquet C, Roulliay M, et al. Development of Al-based multilayer optics for EUV[J]. Appl Phys A, 2010, 98(1): 111.
    [6]
    [7] Hu M H, Guen K L, Andr J -M, et al. Structural properties of Al/Mo/SiC multilayers with high reflectivity for extreme ultraviolet light[J]. Opt Express, 2010, 18(19): 20019-20028.
    [8]
    [9] Meltchakov E, Ziani A, Auchere F, et al. EUV reflectivity and stability of tri-component Al-based multilayers[C]//SPIE, 2011, 8168: 816819.
    [10]
    [11]
    [12] Zhong Q, Li W B, Zhang Z, et al. Optical and structural performance of the Al/Zr reflection multilayers in the 17-19 nm region[J]. Opt Express, 2012, 20(10): 10692-10700.
    [13]
    [14] Zhong Q, Zhang Z, Zhu J T, et al. The chemical characterization and reflectivity of the Al(1.0%wtSi)/Zr periodic multilayer[J]. Appl Surf Science, 2012, 259: 371-375.
    [15] Zhong Q, Zhang Z, Zhu J T, et al, The thermal stability of Al(1% wtSi)/Zr EUV mirrors [J]. Appl Phys A, 2012, 109(1): 133-138.
    [16]
    [17] Voronov D L, Anderson E H, Cambie R, et al. A 10,000 groove/mm multilayer coated grating for EUV spectroscopy [J]. Opt Express, 2011, 19 (7): 6320-6325.
    [18]
    [19]
    [20] Voronov D L, Anderson E H, Cambie R, et al. Roughening and smoothing behavior of Al/Zr multilayers grown on flat and saw-tooth substrates[C]//SPIE, 2011, 8139: 81390B 1-10.
    [21]
    [22] Pershyn Y P, Zubarev E N, Kondratenko V V, et al. Reactive diffusion in Sc/Si multilayer X-ray mirrors with CrB2 barrier layers[J]. Appl Phys A, 2011, 103(4): 1021-1031.
    [23] Hu Minhui, Guen K L, Andr J -M, et al. Structural properties of Al/Mo/SiC multilayers with high reflectivity for extreme ultraviolet light[J]. Opt Express, 2010, 18(19): 20019-28.
    [24]
    [25] Jonnard P, Maury H, Guen K L, et al. Effect of B4C diffusion barriers on the thermal stability of Sc/Si periodic multilayers[J]. Surf Science, 2010, 604(S11-12): 1015-1021.
    [26]
    [27] Wang F L, Wang Z S, Zhang Z, et al. W/B4C, W/C, W/Si multilayers[J]. Opt Precision Eng, 2005, 13: 28-33. (in Chinse)
    [28]
    [29] Wormington M, Panaccione C, Matney K M, et al. Characterization of low-Z material layer profiles in bilayer structures by X-ray reflectivity measurement[J]. Opt Precision Eng, 2007, 15: 1838-1843.
    [30]
    [31] Matthew W, Charles P, Kevin M, et al. Characterization of structures from X-ray scattering data using genetic algorithms[J]. Philos Trans R Soc Lond, 1999, A357: 2827-2848.
  • [1] 李钱陶, 李定, 王潺, 熊长新, 杨长城.  Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜等离子体环境稳定性研究 . 红外与激光工程, 2020, 49(S1): 20200064-20200064. doi: 10.3788/IRLA20200064
    [2] 杨勋, 徐抒岩, 李晓波, 张旭升, 马宏财.  温度梯度对大口径反射镜热稳定性公差的影响 . 红外与激光工程, 2019, 48(9): 916003-0916003(10). doi: 10.3788/IRLA201948.0916003
    [3] 朱明智, 陈学前, 吴文凯, 徐元利, 陈刚.  ICF装置光束定位的结构稳定性设计 . 红外与激光工程, 2017, 46(11): 1106002-1106002(6). doi: 10.3788/IRLA201746.1106002
    [4] 谢良平, 李瑞, 张斌, 王京献, 张春熹.  单模光纤弯曲半径对光纤陀螺标度因数稳定性的影响 . 红外与激光工程, 2016, 45(1): 122001-0122001(5). doi: 10.3788/IRLA201645.0122001
    [5] 战俊彤, 付强, 段锦, 张肃, 高铎瑞, 姜会林.  利用位置式数字PID 算法提高DFB 激光器驱动电源稳定性 . 红外与激光工程, 2015, 44(6): 1757-1761.
    [6] 李彦, 孙彦凤, 王旭, 姜漫.  采用光纤滤波器的高波长稳定性掺铒光纤光源 . 红外与激光工程, 2015, 44(1): 244-248.
    [7] 江帆, 吴清文, 王忠素, 苗健宇, 郭亮, 陈立恒, 杨献伟.  星敏感器支架的结构/热稳定性分析及验证 . 红外与激光工程, 2015, 44(11): 3463-3468.
    [8] 岳丽清, 张继友.  复合材料在热真空下的尺寸稳定性测试方法 . 红外与激光工程, 2014, 43(11): 3713-3717.
    [9] 石海燕, 赵江山, 宋兴亮, 沙鹏飞, 单耀莹, 王倩, 翟晔, 周翊.  光刻用准分子激光器能量稳定性影响因素分析 . 红外与激光工程, 2014, 43(11): 3540-3546.
    [10] 张明月, 章家保, 杨洪波.  空间傅里叶变换红外光谱仪动镜速度稳定性研究 . 红外与激光工程, 2014, 43(4): 1240-1246.
    [11] 张星祥, 任建岳.  TMA 空间相机性能稳定性的全状态分析与测试 . 红外与激光工程, 2014, 43(9): 2996-3004.
    [12] 刘晖, 冯刘, 张连东, 程宏昌, 高翔, 张晓辉.  GaAs光阴极激活稳定性研究 . 红外与激光工程, 2014, 43(4): 1222-1225.
    [13] 李富贵, 夏群利, 蔡春涛, 祁载康.  导引头隔离度对寄生回路稳定性的影响 . 红外与激光工程, 2013, 42(9): 2341-2347.
    [14] 杨明伟, 汪磊, 杨远洪, 吴长莘.  变温环境下SLD恒流源的驱动稳定性研究 . 红外与激光工程, 2013, 42(11): 3024-3028.
    [15] 王嘉鑫, 林德福, 祁载康, 吕瑛洁.  全捷联导引头隔离度对制导稳定性的影响 . 红外与激光工程, 2013, 42(10): 2608-2613.
    [16] 潘永强, 白涛, 杭凌侠.  太阳模拟器AM0型滤光片及其稳定性研究 . 红外与激光工程, 2013, 42(5): 1306-1310.
    [17] 孙高, 朱明超, 刘慧, 贾宏光.  半捷联导引头光轴稳定性 . 红外与激光工程, 2013, 42(2): 489-494.
    [18] 薛向尧, 高云国, 张文豹, 张磊.  库德光路光束指向稳定性分析 . 红外与激光工程, 2013, 42(6): 1514-1518.
    [19] 房丹, 唐吉龙, 魏志鹏, 赵海峰, 方铉, 田珊珊, 楚学影, 王晓华.  利用原子淀积Al2O3对InP光学稳定性的研究 . 红外与激光工程, 2013, 42(12): 3386-3389.
    [20] 韩潇, 朱嘉琦, 周峰, 陈晓丽.  多层四面体非晶碳膜的热稳定性 . 红外与激光工程, 2012, 41(1): 144-148.
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-08-11
  • 修回日期:  2014-09-15
  • 刊出日期:  2015-04-25

Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究

    作者简介:

    李嘉(1988-),女,硕士生,主要从事X射线多层膜光学方面的研究.Email:freya.lijia@foxmail.com

基金项目:

国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金资助(U1430131);上海市科委纳米项目(11nm0507200)

  • 中图分类号: O434.1

摘要: 为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性,采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜,并将这些样品分别进行了不同温度(100~500 ℃)的真空退火,退火时间为1 h.利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XRD)的方法来研究Si间隔层对Al/Zr多层膜热稳定性的作用.GIXR测量结果表明:随着Si间隔层厚度的增大,Al膜层的粗糙度减小,而Zr膜层的粗糙度增大;XRD测量结果表明:Al和Zr膜层粗糙度的变化是由于退火后膜层中晶粒尺寸不同造成的.相比于没有Si间隔层的Al/Zr多层膜,引入厚度为0.6 nm的Si间隔层可以有效提升Al/Zr多层膜的热稳定性.

English Abstract

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