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HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究

鲍刚华 程鑫彬 焦宏飞 刘华松 王占山

鲍刚华, 程鑫彬, 焦宏飞, 刘华松, 王占山. HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(9): 2761-2766.
引用本文: 鲍刚华, 程鑫彬, 焦宏飞, 刘华松, 王占山. HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(9): 2761-2766.
Bao Ganghua, Cheng Xinbin, Jiao Hongfei, Liu Huasong, Wang Zhanshan. Study of the evolution of refractive inhomogeneity in HfO2 thin films[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(9): 2761-2766.
Citation: Bao Ganghua, Cheng Xinbin, Jiao Hongfei, Liu Huasong, Wang Zhanshan. Study of the evolution of refractive inhomogeneity in HfO2 thin films[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(9): 2761-2766.

HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究

基金项目: 

国家自然科学基金(61108036,61235011);高等学校博士学科点专项科研基金(20100072120037);中央高校基本科研业务费专项资金

详细信息
    作者简介:

    鲍刚华(1981-),男,博士生,主要从事纳秒脉冲作用下氧化物薄膜的抗激光损伤特性方面的研究。

    通讯作者: 焦宏飞(1982-),男,讲师,主要从事光学薄膜方面的研究。Email:jiaohf@tongji.edu.cn
  • 中图分类号: O436

Study of the evolution of refractive inhomogeneity in HfO2 thin films

  • 摘要: 在加热的BK7基板上,采用电子束蒸发(EB)工艺制备了一系列不同厚度的HfO2单层膜,对HfO2薄膜生长过程中的折射率非均质性进行了研究。光谱分析表明薄膜非均质性与其厚度息息相关。X射线衍射(XRD)测试表明不同非均质性薄膜对应不同的微观结构;薄膜的微观结构主要由薄膜的生长机制决定。当膜厚较薄时,薄膜不易结晶,呈无定形态,此时薄膜呈正非均质性。如果沉积温度足够高,则薄膜达到一定厚度后开始结晶,此后薄膜折射率就会逐渐下降。随着薄膜继续生长,薄膜晶态结构保持恒定不再变化,非均质性也会因此保持不变达到极值。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-01-15
  • 修回日期:  2015-02-23
  • 刊出日期:  2015-09-25

HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究

    作者简介:

    鲍刚华(1981-),男,博士生,主要从事纳秒脉冲作用下氧化物薄膜的抗激光损伤特性方面的研究。

    通讯作者: 焦宏飞(1982-),男,讲师,主要从事光学薄膜方面的研究。Email:jiaohf@tongji.edu.cn
基金项目:

国家自然科学基金(61108036,61235011);高等学校博士学科点专项科研基金(20100072120037);中央高校基本科研业务费专项资金

  • 中图分类号: O436

摘要: 在加热的BK7基板上,采用电子束蒸发(EB)工艺制备了一系列不同厚度的HfO2单层膜,对HfO2薄膜生长过程中的折射率非均质性进行了研究。光谱分析表明薄膜非均质性与其厚度息息相关。X射线衍射(XRD)测试表明不同非均质性薄膜对应不同的微观结构;薄膜的微观结构主要由薄膜的生长机制决定。当膜厚较薄时,薄膜不易结晶,呈无定形态,此时薄膜呈正非均质性。如果沉积温度足够高,则薄膜达到一定厚度后开始结晶,此后薄膜折射率就会逐渐下降。随着薄膜继续生长,薄膜晶态结构保持恒定不再变化,非均质性也会因此保持不变达到极值。

English Abstract

参考文献 (38)

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