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离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性

刘华松 傅翾 王利栓 姜玉刚 冷健 庄克文 季一勤

刘华松, 傅翾, 王利栓, 姜玉刚, 冷健, 庄克文, 季一勤. 离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性[J]. 红外与激光工程, 2013, 42(7): 1770-1775.
引用本文: 刘华松, 傅翾, 王利栓, 姜玉刚, 冷健, 庄克文, 季一勤. 离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性[J]. 红外与激光工程, 2013, 42(7): 1770-1775.
Liu Huasong, Fu Xuan, Wang Lishuan, Jiang Yugang, Leng Jian, Zhuang Kewen, Ji Yiqin. Correlation between properties of Ta2O5 thin films and preparative parameters by ion beam sputtering deposition[J]. Infrared and Laser Engineering, 2013, 42(7): 1770-1775.
Citation: Liu Huasong, Fu Xuan, Wang Lishuan, Jiang Yugang, Leng Jian, Zhuang Kewen, Ji Yiqin. Correlation between properties of Ta2O5 thin films and preparative parameters by ion beam sputtering deposition[J]. Infrared and Laser Engineering, 2013, 42(7): 1770-1775.

离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性

基金项目: 

国家自然科学基金(61235011);天津市科委项目(10JCYBJC01500,12JCQNIC01200)

详细信息
    作者简介:

    刘华松(1980-),男,高级工程师,博士,主要从事激光薄膜的设计、制备与测试技术研究。Email:liuhuasong@gmail.com

  • 中图分类号: O484

Correlation between properties of Ta2O5 thin films and preparative parameters by ion beam sputtering deposition

  • 摘要: 离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-02-28
  • 修回日期:  2013-03-27
  • 刊出日期:  2013-07-25

离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性

    作者简介:

    刘华松(1980-),男,高级工程师,博士,主要从事激光薄膜的设计、制备与测试技术研究。Email:liuhuasong@gmail.com

基金项目:

国家自然科学基金(61235011);天津市科委项目(10JCYBJC01500,12JCQNIC01200)

  • 中图分类号: O484

摘要: 离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。

English Abstract

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