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强激光脉冲辐照对多晶硅片导电性的影响

许德富 肖啸 李育德

许德富, 肖啸, 李育德. 强激光脉冲辐照对多晶硅片导电性的影响[J]. 红外与激光工程, 2016, 45(S1): 55-59. doi: 10.3788/IRLA201645.S106003
引用本文: 许德富, 肖啸, 李育德. 强激光脉冲辐照对多晶硅片导电性的影响[J]. 红外与激光工程, 2016, 45(S1): 55-59. doi: 10.3788/IRLA201645.S106003
Xu Defu, Xiao Xiao, Li Yude. Effect of high power laser pulse on the electroconductivity of multi-crystalline silicon wafer[J]. Infrared and Laser Engineering, 2016, 45(S1): 55-59. doi: 10.3788/IRLA201645.S106003
Citation: Xu Defu, Xiao Xiao, Li Yude. Effect of high power laser pulse on the electroconductivity of multi-crystalline silicon wafer[J]. Infrared and Laser Engineering, 2016, 45(S1): 55-59. doi: 10.3788/IRLA201645.S106003

强激光脉冲辐照对多晶硅片导电性的影响

doi: 10.3788/IRLA201645.S106003
基金项目: 

四川省科技计划项目(SC6014534);乐山市科技攻关项目(ZD130541)

详细信息
    作者简介:

    许德富(1968-),男,副教授,硕士,主要从事激光与材料相互作用领域方面的研究。Email:1972631141@qq.com

  • 中图分类号: TN249

Effect of high power laser pulse on the electroconductivity of multi-crystalline silicon wafer

  • 摘要: 为了减小多晶硅中晶界、位错、微缺陷和过渡族杂质对多晶硅太阳电池效率的不利影响,采用兆瓦级可调谐TEA CO2高功率激光器输出的激光脉冲对硅片进行预处理。使用10m带不同支线的脉宽约为200 ns红外激光脉冲在20 mm汞柱的氢气氛中对多晶硅片辐照不同的脉冲数,制得25个样品;去除样品的损伤层后,用S2T-2A四探针测试仪测试了各组样品的电阻率,发现所有样品电阻率都有不同程度的降低,其中经P18和P20支线脉冲辐照3个脉冲的样品电阻率下降幅度最大,下降幅度最高达到50%;用高频光电导少子寿命测试仪测试样品的少子寿命,发现所有样品少子寿命都变长,其中经P18和P20辐照三个脉冲后的样品少子寿命增加幅度最大,增幅最高达30%。
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-01-11
  • 修回日期:  2016-02-15
  • 刊出日期:  2016-05-25

强激光脉冲辐照对多晶硅片导电性的影响

doi: 10.3788/IRLA201645.S106003
    作者简介:

    许德富(1968-),男,副教授,硕士,主要从事激光与材料相互作用领域方面的研究。Email:1972631141@qq.com

基金项目:

四川省科技计划项目(SC6014534);乐山市科技攻关项目(ZD130541)

  • 中图分类号: TN249

摘要: 为了减小多晶硅中晶界、位错、微缺陷和过渡族杂质对多晶硅太阳电池效率的不利影响,采用兆瓦级可调谐TEA CO2高功率激光器输出的激光脉冲对硅片进行预处理。使用10m带不同支线的脉宽约为200 ns红外激光脉冲在20 mm汞柱的氢气氛中对多晶硅片辐照不同的脉冲数,制得25个样品;去除样品的损伤层后,用S2T-2A四探针测试仪测试了各组样品的电阻率,发现所有样品电阻率都有不同程度的降低,其中经P18和P20支线脉冲辐照3个脉冲的样品电阻率下降幅度最大,下降幅度最高达到50%;用高频光电导少子寿命测试仪测试样品的少子寿命,发现所有样品少子寿命都变长,其中经P18和P20辐照三个脉冲后的样品少子寿命增加幅度最大,增幅最高达30%。

English Abstract

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